Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
3D silicon shapes through bulk nano structuration by focused ion beam implantation and wet etching
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BSO - Titre
3D silicon shapes through bulk nano structuration by focused ion beam implantation and wet etching
XX
DOI
DOI
10.1088/1361-6528/aa6c9f
XX
DOAI
DOAI
10.1088/1361-6528/aa6c9f
XX
Identifiant WoS
WOS:000406030000001
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Accès ouvert
OA - Non
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Source - Accès ouvert
OA - Non
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Type d'accès
Non OA
XX
Editeur
IOP Publishing
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Source
NANOTECHNOLOGY
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ISSN
0957-4484
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Type de document
Article
XX
Notoriété
4 - Excellente
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
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uid:/2X5XKP1G
12/10/2021 14:52:48 (latest)
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