Poids de l’Open access dans la production CNRS
Home
Resources
Graphs
Search
Export
Sign in
Titre
Physical properties of highly crystalline CIS layer prepared using single phase electrodeposition and low temperature RTP annealing
XX
BSO - Titre
Physical properties of highly crystalline CIS layer prepared using single phase electrodeposition and low temperature RTP annealing
XX
DOI
DOI
10.1016/j.jallcom.2016.09.028
XX
DOAI
DOAI
10.1016/j.jallcom.2016.09.028
XX
Identifiant WoS
WOS:000391817600094
XX
Accès ouvert
OA - Non
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Non OA
XX
Editeur
Elsevier
XX
Source
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS
XX
ISSN
0925-8388
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
5 - Exceptionnelle
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INC - Institut de chimie
XX
uid:/79W0Z914
12/10/2021 14:52:34 (latest)
Add field
Share/Export
Powered by
Lodex
9.6.0
