Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Recent Achievements in Sub-10 nm DSA Lithography for Line/Space Patterning
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BSO - Titre
Recent Achievements in Sub-10 nm DSA Lithography for Line/Space Patterning
XX
DOI
DOI
10.2494/photopolymer.30.69
XX
DOAI
DOAI
10.2494/photopolymer.30.69
XX
Identifiant WoS
WOS:000407658100010
XX
Accès ouvert
OA - Oui
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Editeur
XX
Editeur
Technical Association of Photopolymers, Japan
XX
Source
JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY
XX
ISSN
0914-9244
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
1 - Médiocre
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INC - Institut de chimie
INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
XX
uid:/8L0X5JS6
12/10/2021 14:52:50 (latest)
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