Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Growth of aluminum nitride on flat and patterned Si (111) by high temperature halide CVD
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BSO - Titre
Growth of aluminum nitride on flat and patterned Si (111) by high temperature halide CVD
XX
DOI
DOI
10.1016/j.tsf.2016.11.045
XX
DOAI
DOAI
10.1016/j.tsf.2016.11.045
XX
Identifiant WoS
WOS:000394191300010
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Accès ouvert
OA - Non
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Non OA
XX
Editeur
Elsevier
XX
Source
THIN SOLID FILMS
XX
ISSN
0040-6090
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
3 - Correcte
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INC - Institut de chimie
XX
uid:/8T1QS5GH
12/10/2021 14:52:36 (latest)
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