Silicon exfoliation by hydrogen implantation: Actual nature of precursor defects

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BSO - Titre

Silicon exfoliation by hydrogen implantation: Actual nature of precursor defects

DOI

DOAI

Identifiant WoS

WOS:000402213900007

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Type d'accès

Non OA

Editeur

Elsevier

Source

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS

ISSN

0168-583X

Type de document

Notoriété

3 - Correcte

CNRS

Oui

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