decoration

Poids de l’Open access dans la production CNRS

Titre
Impact of Gate-Drain Spacing on Low-Frequency Noise Performance of In Situ SiN Passivated InAlGaN/GaN MIS-HEMTs
BSO - Titre
Impact of Gate-Drain Spacing on Low-Frequency Noise Performance of In Situ SiN Passivated InAlGaN/GaN MIS-HEMTs
Identifiant WoS
WOS:000403452900007
Accès ouvert
OA - Oui
Source - Accès ouvert
OA - Non
Type d'accès
Archive
Editeur

IEEE - Institute of Electrical and Electronics Engineers

Source

IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES

ISSN
0018-9383
Type de document
  • Article
Notoriété
3 - Correcte
CNRS
Oui
CNRS - Institut
  • INP - Institut de physique
  • INS2I - Institut des sciences de l'information et de leurs interactions
  • INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
uid:/JD4XP63S
Powered by Lodex 9.6.0
decoration