Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Reactive gas pulsing sputtering process, a promising technique to elaborate silicon oxynitride multilayer nanometric antireflective coatings
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BSO - Titre
Reactive gas pulsing sputtering process, a promising technique to elaborate silicon oxynitride multilayer nanometric antireflective coatings
XX
DOI
DOI
10.1088/1361-6463/50/1/015306
XX
DOAI
DOAI
10.1088/1361-6463/50/1/015306
XX
Identifiant WoS
WOS:000389213700001
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Accès ouvert
OA - Non
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Non OA
XX
Editeur
IOP Publishing
XX
Source
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
XX
ISSN
0022-3727
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
3 - Correcte
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules
INC - Institut de chimie
INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
XX
uid:/N9MDQV6P
12/10/2021 14:52:33 (latest)
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