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Poids de l’Open access dans la production CNRS

Titre
FTIR and Raman study of rapid thermal annealing and oxidation effects on structural properties of silicon-rich SixC1-x thin films deposited by R. F co-sputtering
BSO - Titre
FTIR and Raman study of rapid thermal annealing and oxidation effects on structural properties of silicon-rich Si x C 1-x thin films deposited by R.F co-sputtering
DOI
DOAI
Identifiant WoS
WOS:000399513000006
Accès ouvert
OA - Non
Source - Accès ouvert
OA - Non
Type d'accès
Non OA
Editeur

Elsevier

Source

VIBRATIONAL SPECTROSCOPY

ISSN
0924-2031
Type de document
  • Article
Notoriété
2 - Acceptable
CNRS
Oui
CNRS - Institut
  • INC - Institut de chimie
uid:/NTWM7XLR
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