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Poids de l’Open access dans la production CNRS

Titre
A user-friendly guide to the optimum ultraviolet photolithographic exposure and greyscale dose of SU-8 photoresist on common MEMS, microsystems, and microelectronics coatings and materials
BSO - Titre
A user-friendly guide to the optimum ultraviolet photolithographic exposure and greyscale dose of SU-8 photoresist on common MEMS, microsystems, and microelectronics coatings and materials
DOI
DOAI
Identifiant WoS
WOS:000400925600002
Accès ouvert
OA - Non
Source - Accès ouvert
OA - Non
Type d'accès
Non OA
Editeur

RSC - Royal Society of Chemistry

Source

ANALYTICAL METHODS

ISSN
1759-9660
Type de document
  • Article
Notoriété
3 - Correcte
CNRS
Oui
CNRS - Institut
  • INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
uid:/Q5RZSKLS
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