Poids de l’Open access dans la production CNRS
Home
Resources
Graphs
Search
Export
Sign in
Titre
Surface improvement of organic photoresists using a near-field-dependent etching method
XX
BSO - Titre
Surface improvement of organic photoresists using a near-field-dependent etching method
XX
DOI
DOI
10.3762/bjnano.8.81
XX
DOAI
DOAI
10.3762/bjnano.8.81
XX
Identifiant WoS
WOS:000406230200001
XX
Accès ouvert
OA - Oui
XX
Source - Accès ouvert
OA - Oui
XX
Type d'accès
Editeur
XX
Editeur
Beilstein Institut
XX
Source
BEILSTEIN JOURNAL OF NANOTECHNOLOGY
XX
ISSN
2190-4286
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
4 - Excellente
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INC - Institut de chimie
XX
uid:/QJC4KTRK
12/10/2021 14:52:48 (latest)
Add field
Share/Export
Powered by
Lodex
9.6.0
