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Poids de l’Open access dans la production CNRS

Titre
Characterization of antimonide based material grown by molecular epitaxy on vicinal silicon substrates via a low temperature AlSb nucleation layer
BSO - Titre
Characterization of antimonide based material grown by molecular epitaxy on vicinal silicon substrates via a low temperature AlSb nucleation layer
Identifiant WoS
WOS:000413646100014
Accès ouvert
OA - Non
Source - Accès ouvert
OA - Non
Type d'accès
Non OA
Editeur

Elsevier

Source

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH

ISSN
0022-0248
Type de document
  • Article
Notoriété
2 - Acceptable
CNRS
Oui
CNRS - Institut
  • INP - Institut de physique
  • INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
uid:/S6X0XBG0
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