Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Influence of deposition rate on the structural properties of plasma-enhanced CVD epitaxial silicon
XX
BSO - Titre
Influence of deposition rate on the structural properties of plasma-enhanced CVD epitaxial silicon
XX
DOI
DOI
10.1038/srep43968
XX
DOAI
DOAI
10.1038/srep43968
XX
Identifiant WoS
WOS:000395741000001
XX
Accès ouvert
OA - Oui
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Source - Accès ouvert
OA - Oui
XX
Type d'accès
Editeur
XX
Editeur
Springer
XX
Source
SCIENTIFIC REPORTS
XX
ISSN
2045-2322
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
4 - Excellente
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
XX
uid:/TFB7G5ZM
12/10/2021 14:52:37 (latest)
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