Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Direct Writing on Copper Ion Doped Silica Films by Electrogeneration of Metallic Microstructures
XX
BSO - Titre
Direct Writing on Copper Ion Doped Silica Films by Electrogeneration of Metallic Microstructures
XX
DOI
DOI
10.1021/acs.jpcc.6b09913
XX
DOAI
DOAI
10.1021/acs.jpcc.6b09913
XX
Identifiant WoS
WOS:000392554000017
XX
Accès ouvert
OA - Oui
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Editeur
XX
Editeur
ACS - American Chemical Society
XX
Source
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C
XX
ISSN
1932-7447
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
4 - Excellente
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INC - Institut de chimie
INP - Institut de physique
XX
uid:/VJ48BCWV
12/10/2021 14:52:34 (latest)
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