Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Benefits of XPS nanocharacterization for process development and industrial control of thin SiGe channel layers in advanced CMOS technologies
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BSO - Titre
Benefits of XPS nanocharacterization for process development and industrial control of thin SiGe channel layers in advanced CMOS technologies
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DOI
DOI
10.1016/j.mssp.2016.10.028
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DOAI
DOAI
10.1016/j.mssp.2016.10.028
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Identifiant WoS
WOS:000410870900020
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Accès ouvert
OA - Non
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Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Non OA
XX
Editeur
Elsevier
XX
Source
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
XX
ISSN
1369-8001
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
3 - Correcte
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
XX
uid:/XCRVDH8J
12/10/2021 14:52:52 (latest)
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