Study of Seed-Layer Stability on Copper Electrolytic Bath

Titre

BSO - Titre

Study of Seed-Layer Stability on Copper Electrolytic Bath

DOI

DOAI

Identifiant WoS

WOS:000406883200012

Accès ouvert

OA - Non

Source - Accès ouvert

OA - Non

Type d'accès

Non OA

Editeur

The Electrochemical Society

Source

SILICON COMPATIBLE MATERIALS, PROCESSES, AND TECHNOLOGIES FOR ADVANCED INTEGRATED CIRCUITS AND EMERGING APPLICATIONS 7

ISSN

1938-5862

Type de document

Notoriété

0 - Sans notoriété

CNRS

Oui

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