decoration

Poids de l’Open access dans la production CNRS

Titre
Evolution and prevention of meltback etching: Case study of semipolar GaN growth on patterned silicon substrates
BSO - Titre
Evolution and prevention of meltback etching: Case study of semipolar GaN growth on patterned silicon substrates
Identifiant WoS
WOS:000410749300031
Accès ouvert
OA - Non
Source - Accès ouvert
OA - Non
Type d'accès
Non OA
Editeur

AIP Publishing

Source

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS

ISSN
0021-8979
Type de document
  • Article
Notoriété
3 - Correcte
CNRS
Oui
CNRS - Institut
  • INP - Institut de physique
uid:/ZK2QZ1T0
Powered by Lodex 9.6.0
decoration